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Optometrics金刻蚀光栅
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美国
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产品简介

金刻蚀光栅

该系列光栅主要用于高功率以及高效率的应用。

我们在金材料上设计和刻蚀光栅,用于红外波段(4~12微米)的激光应用。金光栅特别适合于追求高效率红外激光应用。在高功率应用中,为了避免高功率激光打坏光栅,通常都要在光栅上镀一层铝。该系列光栅的基质是不胀钢或者陶瓷。如果您希望用其他基质,可以和顶尖公司联系。

产品特点:

在特殊基质上刻蚀的金层可以用于4~12微米的应用。

在铜基质上铝层刻蚀出来的是标准的分子激光光栅。

线密度g/mm

70~ 450

工作范围(μm)

4~12

基质

铜,不胀钢,陶瓷,硅

通光孔径

90%

划线与边缘的平行度

± 0.5°

尺寸公差

± 0.5 mm

厚度公差

± 0.5 mm

典型峰值效率偏振

≥95%

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